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真空懸浮熔煉爐 雙層水冷結構設計

所屬分類:真空熔煉爐系列

產品(pin)型號(hao):KZGF-0.3

更新時(shi)間:2023-02-01

描述:真空懸浮熔煉爐 雙層水冷結構設計設備組成

真空磁懸浮熔煉爐主要由“高真空腔體"、“抽真空系統"、“熔煉系統及旋轉澆鑄系統"、“水冷銅坩堝"、“電控系統"、“水冷系統"、“工作臺架及附件系統"等部分組成。

詳細信息







一、真空懸浮熔煉爐 雙層水冷結構設計主要技術參數

1、設備總功率(lv):≤120Kw;

2、懸浮(fu)電源功率(lv):≤100Kw   IGBT懸浮(fu)專用電源 SPG-100;

3、容量:水冷銅坩堝(guo),500-1000g(以鋼液7.8克/立方厘米(mi)計(ji)算);

4、輸入電(dian)源:3 相(xiang)、 380 ± 10 %、 50Hz;

5、冷態極限真空度:5.0×10E-4Pa;

6、熔煉溫度≤2100℃ 配置紅外測溫儀;

7、水冷銅坩堝≤¢60*80 熔煉(lian)溫度低(di)于(yu)2100度的金屬合金;

8、可充保護氣≤0.03Mpa;

9、控制方式:操作模擬屏+PLC,配置手動操作按(an)鈕;

10、操作模式:閥門氣動、電動;

11、設(she)備立(li)式上開蓋結構(gou)設(she)計,雙層(ceng)水冷結構(gou)設(she)計。

二、真空懸浮熔煉爐 雙層水冷結構設計設備組成

真空磁懸浮(fu)熔(rong)煉爐主要由“高真空腔體"、“抽真空系(xi)統(tong)(tong)"、“熔(rong)煉系(xi)統(tong)(tong)及旋轉澆鑄(zhu)系(xi)統(tong)(tong)"、“水(shui)(shui)冷銅坩堝"、“電控系(xi)統(tong)(tong)"、“水(shui)(shui)冷系(xi)統(tong)(tong)"、“工作臺架及附件系(xi)統(tong)(tong)"等部分組成(cheng)。

1、高真空腔體

分(fen)為爐(lu)體(ti)、爐(lu)蓋兩大部分(fen)組(zu)成

1.1爐體選用304不(bu)銹(xiu)鋼材(cai)料制造,由法蘭和雙層(ceng)圓筒(tong)組成,采(cai)用氬弧(hu)焊焊接,表(biao)面噴砂電解拋光處理,采(cai)用雙層(ceng)水冷結構,保證爐殼溫度(du)不(bu)超過40℃;

1.2 爐(lu)蓋采用上(shang)開門結構,帶有(you)鎖緊(jin)裝置,并在爐(lu)蓋上(shang)設(she)有(you)可以觀(guan)察(cha)爐(lu)內熔煉(lian)情況的(de)觀(guan)察(cha)孔和紅外測溫孔。濾光(guang)裝置;

1.3 爐體上設有抽真(zhen)空接口(kou)、進電進水接口(kou)、充保護氣氛接口(kou)等。

2、抽真空系統

2.1選用直聯泵作為前級泵,分子泵作為主泵,設備的冷態極限真空度≤5×10-4Pa;

機械泵:

(1)抽速:30m/h(8.3L/S);

(2)極限總壓強:4*10-2Pa;

(3)電源:三(san)相(xiang)380v 、50hz;

(4)電(dian)機功(gong)率:1.1kw;

(5)排氣口:kf40;

(6)用油(you)量:1.3-2.0L;

(7)電機轉速:1440r/min;

(8)工作(zuo)環境(jing):5-40℃;

(9)噪音:≦58dB;

分子泵:

(1)真空(kong)法(fa)蘭:160;

(2)前級管(guan)道法蘭(lan):KF40;

(3)抽速:600L/S;

(4)電機轉速(su):24000r/min;

(5)啟動時間:≤4.5S;

(6)冷卻方(fang)式:水冷;

(7)冷卻水流(liu)量:1~2L/min;

2.2、選用復合真空計測量,測量量程為1.0×10Pa~1.0×10-6 Pa。

2.3、 在(zai)真(zhen)(zhen)空機(ji)組與爐體之間裝有高真(zhen)(zhen)空擋(dang)板(ban)閥和充氣放(fang)氣閥,可獲得(de)惰(duo)性氣氛熔煉(lian)環境。





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